超聲波清洗機(jī)中有機(jī)溶劑與半水基溶劑的區(qū)別

1.超聲波清洗機(jī)工藝流程

研磨后清洗：

研磨是光學(xué)玻璃生產(chǎn)中決定加工效率和表面質(zhì)量（外觀和精度）的重要過(guò)程。研磨過(guò)程中的主要污染物是研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)在加工過(guò)程中會(huì)有油漆碎片。其中，磨粉的型號(hào)不同，一般是堿金屬氧化物，主要是二氧化鈦。根據(jù)鏡片的材料和研磨精度，選擇不同型號(hào)的研磨粉。在研磨過(guò)程中使用的瀝青起到了防止光面鏡劃傷或腐蝕的保護(hù)作用。研磨的清洗設(shè)備大致分為兩類(lèi)。

一種主要使用有機(jī)溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑。

有機(jī)溶劑清洗的清洗工藝如下：

有機(jī)溶劑洗滌劑（超聲波）-水洗劑（超聲波）-試水沖洗-純水沖洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA緩慢拉伸干燥。

有機(jī)溶劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青和油漆碎片。過(guò)去三氯乙烷或三氯乙烯主要用于溶劑清洗劑。三氯甲烷是ODS（臭氧層消耗物質(zhì)）產(chǎn)品，目前處于強(qiáng)制淘汰階段。長(zhǎng)期使用三氯乙烯容易導(dǎo)致職業(yè)病，三氯乙烯不穩(wěn)定，容易水解酸性，腐蝕鏡片和設(shè)備。為此，國(guó)內(nèi)清潔劑制造商開(kāi)發(fā)生產(chǎn)了一系列可用于光學(xué)玻璃清洗的非ODS溶劑清潔劑。該產(chǎn)品群具有不同的物理化學(xué)指標(biāo)，能有效滿(mǎn)足不同設(shè)備和工藝條件的要求。例如，在少數(shù)企業(yè)的生產(chǎn)過(guò)程中，鏡片表面有難以處理的油漆碎片，需要特殊溶解的有機(jī)溶劑；部分企業(yè)需要設(shè)備溶劑洗滌槽冷凝管少、自由距離短、揮發(fā)緩慢的有機(jī)溶劑；其他企業(yè)需要快速揮發(fā)。

水洗劑的主要用途是洗滌磨粉。由于磨粉是堿金屬氧化物，溶劑的洗滌能力很弱，鏡片加工過(guò)程中產(chǎn)生的磨粉基本上是從水洗單元中去除的，因此對(duì)水洗劑的要求很高。過(guò)去國(guó)內(nèi)光學(xué)玻璃專(zhuān)用水洗劑品種少，很多企業(yè)選擇進(jìn)口洗滌劑。目前，國(guó)內(nèi)公司開(kāi)發(fā)了光學(xué)玻璃清洗劑，并成功應(yīng)用于國(guó)內(nèi)多家大型光學(xué)玻璃制造商。洗滌效果完全可以替代進(jìn)口產(chǎn)品，腐蝕性（防腐性能）等指標(biāo)優(yōu)于進(jìn)口產(chǎn)品。

對(duì)于IPA的緩慢拉伸干燥，需要注意的是，一些類(lèi)型的鏡后很容易產(chǎn)生水印，這種現(xiàn)象一方面與IPA的純度和空氣濕度有關(guān)，另一方面與清潔設(shè)備有很大關(guān)系。特別是手臂的干燥效果遠(yuǎn)不如單手臂的干燥效果好。設(shè)備制造商和用戶(hù)應(yīng)該注意到這一點(diǎn)。

2.反水器清洗使用的清洗工藝如下

半水期洗滌劑（超聲波）-時(shí)水洗滌-時(shí)水洗滌-純水洗滌-IPA脫水-IPA緩慢拉伸干燥。

與溶劑清洗相比，這種清洗工藝的區(qū)別在于前兩個(gè)清洗單位：有機(jī)溶劑清洗僅對(duì)瀝青或油漆碎片有良好的清洗效果，但不能清洗研磨粉等無(wú)機(jī)物質(zhì)；根據(jù)半水期清洗劑，不僅可以清洗瀝青等有機(jī)污染物，而且對(duì)磨粉等無(wú)機(jī)物有很好的清洗效果，后續(xù)清洗大大降低了水期清洗劑的清洗壓力。半水期洗滌劑的特點(diǎn)是揮發(fā)速度慢，氣味少。在第一個(gè)清洗單元中，使用反水器清洗劑的設(shè)備不需要密封、冷凝、蒸餾和回收裝置。但由于半水機(jī)清洗劑的粘稠度高，對(duì)后續(xù)工程中使用的水機(jī)清洗劑起到了乳化作用，因此第二單元必須用城市水清洗，最好用純水清洗。

國(guó)內(nèi)應(yīng)用該工藝的企業(yè)不多，其中一個(gè)原因是反水洗洗滌劑大部分是進(jìn)口，價(jià)格比較貴。

從水氣洗滌單位開(kāi)始，半水氣洗滌工藝幾乎與溶劑洗滌工藝相同。這里不再重復(fù)。

3.有機(jī)溶劑清洗和反水器清洗

溶劑清洗作為一種更加傳統(tǒng)的方法，其優(yōu)點(diǎn)是清洗速度快、效率高，溶劑本身可以不斷蒸餾回收，但缺點(diǎn)明顯。光學(xué)玻璃生產(chǎn)環(huán)境需要恒溫恒濕。溶劑氣味會(huì)對(duì)工作環(huán)境產(chǎn)生一定的影響。特別是使用半自動(dòng)清洗設(shè)備。

反水器清洗是近年來(lái)逐漸發(fā)展成熟的新工藝，在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎(chǔ)上進(jìn)行了改進(jìn)。有效避免了溶劑的一些弱點(diǎn)，無(wú)毒、氣味輕微，廢水可排放到污水處理系統(tǒng)，設(shè)備配套設(shè)備少，使用周期比溶劑長(zhǎng)，運(yùn)行成本低于溶劑。半水機(jī)清洗劑z突出的優(yōu)點(diǎn)是對(duì)研磨粉等無(wú)機(jī)污染物的清洗效果出色，大大降低了后續(xù)單元水機(jī)清洗劑的清洗壓力，延長(zhǎng)了水機(jī)清洗劑的使用壽命，減少了水機(jī)清洗劑的容量，降低了運(yùn)營(yíng)成本。

缺點(diǎn)是清洗速度比溶劑慢。

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